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纳米位移台通常具有两种主要的定位模式：步进定位（Step positioning）和连续定位（Continuous positioning）。
步进定位模式：在步进定位模式下，纳米位移台以固定的步长移动。它通过控制执行器（如压电元件或电磁驱动）以离散的方式进行位置变化。这种模式下，纳米位移台移动到目标位置后会停止，并保持在该位置。步进定位模式适用于需要准确的位置控制、位置固定以及需要进行单点测量或操作的应用。
连续定位模式：在连续定位模式下，纳米位移台可以以连续的方式进行位置调节。它可以实时地对执行器施加控制信号，从而实现平滑和连续的位置变化。连续定位模式适用于需要连续扫描、运动轨迹跟踪、表面映射等需要连续变化的应用。
区别：
步进定位模式是离散的，而连续定位模式是连续的。在步进定位模式下，纳米位移台会在每个步进位置上停止，而在连续定位模式下，它可以平滑地移动到任意位置。
步进定位模式适用于需要固定位置和离散操作的应用，而连续定位模式适用于需要连续运动、扫描或跟踪的应用。
步进定位模式下的定位精度通常较高，因为每个位置都可以被准确控制和固定。而连续定位模式下的定位精度可能受到运动平滑性和控制系统的响应时间等因素的影响。
选择步进定位模式还是连续定位模式取决于具体应用的需求。某些应用可能需要高精度的位置控制和固定，适合步进定位模式。而对于需要平滑连续运动或实时反馈的应用，则更适合选择连续定位模式。
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