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在电子束曝光下使用纳米位移台时，样品可能会受到电子束的热影响。为了避免或降低这种影响，可以采取以下措施：
使用低电子束能量： 降低电子束的能量可以减少其在样品上产生的热效应。选择适当的电子束加速电压，使其保持在相对较低的水平，以减少热损耗。
限制曝光时间： 减少电子束照射的时间，以降低样品的热积累。将曝光时间限制在必要的节点，以获得所需的成像或分析结果。
使用脉冲电子束： 如果设备支持，可以考虑使用脉冲电子束而非连续电子束。脉冲电子束照射时间短，有助于减少热传导到样品的程度。
散热： 提供样品附近的有效散热系统，以帮助快速冷却样品表面。这可以通过空气或液体冷却系统来实现。
使用导热性好的样品支持： 选择具有较好导热性的样品支持，以帮助迅速传递热量，防止在样品上产生过多的热积累。
考虑样品固定： 在进行电子束曝光之前，可以考虑使用合适的固定剂或支撑结构来确保样品的稳定性。这有助于减小因电子束造成的振动和热效应。
避免高电流密度： 尽量避免使用高电子束的电流密度。选择适当的束流，以减小对样品的热影响。
监测温度： 在实验过程中监测样品的温度。使用温度监测设备，如红外热像仪或热电偶，以实时监测样品的温度，确保不超过安全范围。
以上就是卓聚科技小编分享的纳米位移台在电子束曝光下如何避免样品的热影响。更多位移台产品及价格请咨询15756003283(微信同号)。