等离子体增强化学气相沉积系统（PECVD）
等离子体增强化学气相沉积系统（PECVD），三温区CVD系统，生长样品腔的管径60-120mm，它是由高温管式炉、多路高精度流量控制与供气系统、机械泵、真空密封及测量系统、尾气处理系统组成，极...
化学气相沉积系统
多功能电感耦合等离子体增强化学气相沉积系统是由我团队成员自主研发，具有自主知识产权的产品。本系统具有低温无催化生长石墨烯，也可对石墨烯进行缺陷检测与修复及各向异性刻蚀等功能，也可用于生长其他二维材料。研究成果发表于各类顶级期刊。
等离子体修饰系统
等离子体修饰系统，利用三温区管式炉，通过氧气辅助化学气相沉积技术，在蓝宝石衬底上外延生长了大尺寸、高质量的单层二硫化钼薄膜。在生长过程中引入氧气，不仅能够有效的阻止三氧化钼源中...